[发明专利]多层陶瓷电子元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110439700.7 申请日: 2011-12-23
公开(公告)号: CN103000371A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 金钟翰;郑贤哲;朴宰满 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H01G4/30 分类号: H01G4/30;H01G4/005;H01G4/12
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种多层陶瓷电子元件及其制造方法,该多层陶瓷电子元件包括:具有介电层的陶瓷主体;以及陶瓷主体内的被布置为彼此相对且介电层介于其间的内电极,其中,当介电层的平均厚度为td且内电极的平均厚度为te时,满足0.1μm≤te≤0.5μm和(td+te)/te≤2.5,并且,当内电极的虚拟表面粗糙度中线上的平均表面粗糙度为Ra且内电极的十点平均粗糙度为Rz时,满足5nm≤Ra≤30nm、150nm≤Rz≤td/2以及8≤Rz/Ra≤20。通过提高介电层和内电极之间的粘附强度和耐压特性,该多层陶瓷电子元件具有良好的可靠性。
搜索关键词: 多层 陶瓷 电子元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种多层陶瓷电子元件,包括:陶瓷主体,包括介电层;以及第一和第二内电极,位于所述陶瓷主体内,被布置为彼此相对且所述介电层介于其间,其中,当所述介电层的平均厚度为td且所述内电极的平均厚度为te时,满足0.1μm≤te≤0.5μm和(td+te)/te≤2.5,并且,当所述内电极的虚拟表面粗糙度中线上的平均表面粗糙度为Ra且所述内电极的十点平均粗糙度为Rz时,满足5nm≤Ra≤30nm、150nm≤Rz≤td/2以及8≤Rz/Ra≤20。
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