[发明专利]镀膜装置有效
| 申请号： | 201110411573.X | 申请日： | 2011-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103160792B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 许聪波 | 申请（专利权）人： | 许聪波 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362141 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种镀膜装置，该镀膜装置包括磁性部件、固定部及一离子源，该离子源可溅射出用于镀膜的离子，该工件固定于该固定部上，该磁性部件与该离子源以待镀膜的工件为中心相对设置，与待镀膜工件之间形成一指向待镀膜工件的旋转聚焦加速磁场，用于引导离子向工件方向飞溅。从而克服了因具有弧面曲率不同结构的工件，其存在的端面和弧面曲面部位所形成尖端放电，导致离子镀膜困难的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置包括磁性部件、固定部及一离子源，该离子源可溅射出用于镀膜的离子，该固定部用以固定一待镀膜工件，该磁性部件与该离子源以待镀膜的工件为中心相对设置，与待镀膜工件之间形成一指向待镀膜工件的旋转聚焦加速磁场，用于引导离子向工件方向飞溅，该固定于固定杆上的工件在固定部的旋转中同时旋转，该镀膜装置中的磁性部件自转，由此在磁性部件与工件之间形成一指向待镀膜的工件的旋转的聚焦加速磁场，该加速磁场引导靶材离子飞溅到该待镀膜的工件表面上，以实现对待镀膜的工件镀膜。
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