[发明专利]镀膜装置有效
| 申请号： | 201110411573.X | 申请日： | 2011-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103160792B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 许聪波 | 申请（专利权）人： | 许聪波 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362141 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置包括磁性部件、固定部及一离子源，该离子源可溅射出用于镀膜的离子，该固定部用以固定一待镀膜工件，该磁性部件与该离子源以待镀膜的工件为中心相对设置，与待镀膜工件之间形成一指向待镀膜工件的旋转聚焦加速磁场，用于引导离子向工件方向飞溅。
2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：所述磁性部件为一圆盘形，其上设有一磁体，分别为N级和S级，该圆盘为中心旋转，在旋转的过程中，该磁性部件可从N极到S极产生磁场。
3.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：所述磁性部件为一产生磁场的线圈，该磁力线圈固定在一个旋转的圆盘上，通过该磁力线圈通电，产生一个磁场。
4.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：所述固定部包括一固定杆，并通过该固定杆将工件固定于该固定部上。
5.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：待镀膜的工件具有弧面曲面的长条形。
6.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：该离子源与工件之间设有偏压电源。
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