[发明专利]低气体渗透性硅氧烷树脂组合物和光电器件有效
申请号: | 201110364059.5 | 申请日: | 2011-09-02 |
公开(公告)号: | CN102532915A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 浜本佳英;柏木努 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C08L83/07 | 分类号: | C08L83/07;C08L83/05;H01L33/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 任宗华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种硅氧烷树脂组合物,其包含(A)分子中含有硅-键合芳基和烯基基团的有机基聚硅氧烷、(B)有机基氢聚硅氧烷和(C)加成反应催化剂,是低气体渗透性的。由其封装的光电器件是非常可靠的。 | ||
搜索关键词: | 气体 渗透性 硅氧烷 树脂 组合 光电 器件 | ||
【主权项】:
一种低气体渗透性硅氧烷树脂组合物,其包括:(A)20~95重量份的分子中包含至少两个烯基基团的有机基聚硅氧烷,其具有平均组成式(1):(R1SiO3/2)a(R22SiO)b(R1R2R3SiO1/2)c (1)其中每个R1独立地是C6‑C14芳基;R2可以与R1相同或不同,且每个独立地是取代或未取代的一价烃基;R3是C2‑C8烯基;a是0.3~0.9的正数,b是0~0.5的正数,c是0.05~0.7的正数,并且a+b+c=1.0;(B)0.01~40重量份的分子中包含至少两个硅键合氢原子的有机基氢聚硅氧烷,其具有平均组成式(2):R1dR2eHfSiO(4‑d‑e‑f)/2 (2)其中R1和R2如上所定义;d是0.6至1.5的正数,e是0至0.5的正数,f是0.4至1.0的正数,并且d+e+f=1.0至2.5;和(C)催化量的加成反应催化剂。
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