[发明专利]一种基于最速下降法光刻配置参数的优化方法

摘要

本发明提供一种基于最速下降法光刻配置参数的优化方法，具体步骤为：确定欲优化的n种光刻配置参数，确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标yj，获取最速下降方向，针对光刻配置参数{xi}k，在其所对应的变化范围{[ui，vi]}k内，沿其对应的最速下降方向{di}k进行一维搜索，得到该方向最小的F值，记为Fmin，获取Fmin对应的光刻配置参数{xi}k，并将{xi}k作为下一次循环的光刻配置参数，当循环次数是否达最大或满足搜索精度时，结束优化。本发明统筹考虑各种光刻评价指标，通过构造具有多种光刻性能评价指标的评价函数，实现对优化结果进行评价，因此使得优化后的光刻配置参数具有很好的光刻性能。

主权项

1.一种基于最速下降法光刻配置参数的优化方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、确定欲优化的n种光刻配置参数，针对每一种光刻配置参数选定一初始值构成1×n维矩阵{x_i}₁＝{x₁，x₂，L，x_n}₁，i＝{1，2，L，n}；确定每种光刻配置参数的变化范围{x_i∈[a_i，b_i}＝{[a₁，b₁，[a₂，b₂]L，[a_n，b_n]}，确定每种光刻配置参数用于求解差商的差值{Δx_i∈[a_i，b_i}，其中|Δx_i|＜＜|x_i|；给定优化精度允许误差ε＞0，最大一维搜索次数k_max，并令循环次数k＝1；步骤102、确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标y_j，j＝{1，2，L，m}，并构造光刻性能综合评价函数其中γ_j为针对各光刻性能评价指标设定的比重值；步骤103、对循环次数k进行判断，若k≤k_max，则进入步骤104，若k＞k_max，则进入步骤108；步骤104、针对光刻配置参数{x_i}_k计算其差商，获取最速下降方向{d_i}_k，{di}k={-▿f({xi}k)}k={-F({xi}k)-F({{xi}k-Δxi}){Δxi}}k,]]>{d_i}_k为1×n维矩阵；步骤105、对||{d_i}_k||进行判断，当判定||{d_i}_k||≤ε，进入步骤106，否则进入步骤108，其中||||为取模运算；步骤106、针对光刻配置参数{x_i}_k，根据其对应的最速下降方向{d_i}_k更新其所对应的一维搜索变化范围为{x_i∈[u_i，v_i]}_k，且步骤107、针对光刻配置参数{x_i}_k，在其所对应的变化范围{[u_i，v_i]}_k内，沿其对应的最速下降方向{d_i}_k进行一维搜索，得到该方向最小的F值，记为F_min，获取F_min对应的光刻配置参数{x_i}_k，并将{x_i}_k作为下一次循环的光刻配置参数，令k＝k+1，返回步骤103；步骤108、输出最优光刻配置参数{x_i}_k，以及{x_i}_k所对应的F值。