[发明专利]一种基于最速下降法光刻配置参数的优化方法

权利要求书

1.一种基于最速下降法光刻配置参数的优化方法，其特征在于，具体步骤为：

步骤101、确定欲优化的n种光刻配置参数，针对每一种光刻配置参数选定一初始值构成1×n维矩阵{x_i}₁＝{x₁，x₂，L，x_n}₁，i＝{1，2，L，n}；确定每种光刻配置参数的变化范围{x_i∈[a_i，b_i}＝{[a₁，b₁，[a₂，b₂]L，[a_n，b_n]}，确定每种光刻配置参数用于求解差商的差值{Δx_i∈[a_i，b_i}，其中|Δx_i|＜＜|x_i|；给定优化精度允许误差ε＞0，最大一维搜索次数k_max，并令循环次数k＝1；

步骤102、确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标y_j，j＝{1，2，L，m}，并构造光刻性能综合评价函数其中γ_j为针对各光刻性能评价指标设定的比重值；

步骤103、对循环次数k进行判断，若k≤k_max，则进入步骤104，若k＞k_max，则进入步骤108；

步骤104、针对光刻配置参数{x_i}_k计算其差商，获取最速下降方向{d_i}_k，{di}k={-▿f({xi}k)}k={-F({xi}k)-F({{xi}k-Δxi}){Δxi}}k,]]>{d_i}_k为1×n维矩阵；

步骤105、对||{d_i}_k||进行判断，当判定||{d_i}_k||≤ε，进入步骤106，否则进入步骤108，其中||||为取模运算；

步骤106、针对光刻配置参数{x_i}_k，根据其对应的最速下降方向{d_i}_k更新其所对应的一维搜索变化范围为{x_i∈[u_i，v_i]}_k，且

步骤107、针对光刻配置参数{x_i}_k，在其所对应的变化范围{[u_i，v_i]}_k内，沿其对应的最速下降方向{d_i}_k进行一维搜索，得到该方向最小的F值，记为F_min，获取F_min对应的光刻配置参数{x_i}_k，并将{x_i}_k作为下一次循环的光刻配置参数，令k＝k+1，返回步骤103；

步骤108、输出最优光刻配置参数{x_i}_k，以及{x_i}_k所对应的F值。

2.根据权利要求1所述基于最速下降法光刻配置参数的优化方法，其特征在于，所述步骤106中针对光刻配置参数{x_i}_k，根据其对应的最速下降方向{d_i}_k更新其所对应的变化范围为{x_i∈[u_i，v_i]}_k的具体过程如下：

定义中间变量和

步骤201、针对第p种光刻配置参数(x_p)_k，其中变量p∈{1，2，L，n}，判断(d_p)_k的正负：

当(d_p)_k＞0时，则令中间变量中间变量

当(d_p)_k＜0时，则令中间变量中间变量

当(d_p)_k＝0时，则令中间变量中间变量

步骤202、判断变量p是否取遍1至n上的所有正整数，若是则进入步骤203，否则返回步骤201；

步骤203、针对第p种光刻配置参数(x_p)_k，判断(d_p)_k是否为0：

当(d_p)_k＝0时，则令(up)k=(u^p)k,]]>(vp)k=(v^p)k;]]>

当(d_p)_k≠0时，则(u_p)_k＝(x_p)_k+g_k·(d_p)_k，(v_p)_k＝(x_p)_k+h_k·(d_p)_k；其中g_k为中绝对值最小的一个，h_k为中绝对值最小的一个；

步骤204、判断变量p是否取遍1至n上的所有正整数，若是则结束，否则返回步骤203。