[发明专利]一种磁控溅射可钢化双银LOW-E 玻璃及制备该玻璃的方法有效
| 申请号： | 201110348500.0 | 申请日： | 2011-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN102503174A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 林改 | 申请（专利权）人： | 中山市格兰特实业有限公司火炬分公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中山市科创专利代理有限公司 44211 | 代理人： | 谢自安 |
| 地址： | 528400 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层，第二层为TiO2层，第三层为CrNx层，第四层为ZnO层，第五层为Ag层，第六层为NiCrOy层，第七层为TiO2层，第八层为ZnSn3O4层，第九层为ZnO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOy层，第十二层为TiO2层，最外层为Si3N4Oy层。本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，本发明还提供一种磁控溅射法制备可钢化双银LOW-E玻璃的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 可钢化双银 low 玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射可钢化双银LOW‑E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层(21)，第二层为TiO2层(22)，第三层为CrNx层(23)，第四层为ZnO层(24)，第五层为Ag层(25)，第六层为NiCrOy层(26)，第七层为TiO2层(27)，第八层为ZnSn3O4层(28)，第九层为ZnO层(29)，第十层为Ag层(210)，第十一层为NiCrOy层(211)，第十二层为TiO2层(212)，最外层为Si3N4Oy层(213)。
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