[发明专利]保护芯片级封装的T型接触免受潮有效
申请号: | 201110329737.4 | 申请日: | 2011-10-26 |
公开(公告)号: | CN102569194A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 朱惠珍;郭彦良 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L21/56;H01L27/146;H01L23/00;H01L23/31 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;高雪琴 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种方法包括进行在封装结构上的第一芯片切割,并且包括形成在封装结构的沟槽中延伸的第一金属引线和第二金属引线,其中,所述第一金属引线和所述第二金属引线与在封装结构的装置中的接触焊盘的侧边缘接触。第一金属引线和第二金属引线通过连接金属部互相连接,进行预切割以切割连接金属部来分离第一金属引线和第二金属引线,其中,在预切割以后,连接金属部的剩余部具有边缘。在第一金属引线和第二金属引线的上方形成电介质涂层。进行芯片切割以将封装结构切割开,从而,将第一芯片和第二芯片分成分离件,在每个生成的分离件中,通过第一电介质涂层的剩余部来覆盖连接金属部的剩余部的边缘。 | ||
搜索关键词: | 保护 芯片级 封装 接触 受潮 | ||
【主权项】:
一种方法,包括:进行在封装结构上的第一芯片切割,所述封装结构包括:器件晶圆,包括:第一芯片,其中,所述第一芯片包括第一接触焊盘;以及第二芯片,包括第二接触焊盘;以及附接至所述装置晶圆的载具晶圆,其中,所述第一芯片切割形成在所述封装结构中的第一沟槽,并且其中,所述第一接触焊盘和所述第二接触焊盘的侧边缘暴露于所述第一沟槽下;形成第一金属引线和第二金属引线,所述第一金属引线和所述第二金属引线延伸入所述第一沟槽中并且分别与所述第一接触垫焊盘和所述第二接触垫焊盘的侧边缘接触,其中,通过连接金属部件相互连接所述第一金属引线和所述第二金属引线;进行预切割,切割所述连接金属部件以分离所述第一金属引线和所述第二引线,其中,在所述预切割以后,所述连接金属部件的剩余部分包括边缘;形成在所述第一金属引线和所述第二金属引线上方的第一电介质涂层;以及进行第二芯片切割以将所述封装结构切割开,其中,将所述第一芯片和所述第二芯片分别分成第一部分和第二部分,并且其中,在所述第一部分和所述第二部分中,通过所述第一电介质涂层的剩余部来覆盖所述连接金属部件的所述剩余部分的所述边缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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