[发明专利]广视角液晶显示器阵列基板制作方法有效
| 申请号： | 201110264229.2 | 申请日： | 2011-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102315167A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 郝付泼;谢凡;胡君文;于春崎;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 516600 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种广视角液晶显示器阵列基板制作方法，所述方法包括：提供一基板，在所述基板上依次形成透明导电薄膜和栅极金属层；在所述基板上涂布光敏材料，使用半色调掩膜版进行曝光并显影，形成不同厚度的光敏材料图形；在所述形成不同厚度的光敏材料图形的基板上，进行刻蚀形成第一透明电极；对所述形成透明电极的基板进行脱膜，去除光敏材料，形成栅极；依次在所述形成第一透明电极和栅极的基板上制作有源层、源漏极、保护层和第二透明电极。 | ||
| 搜索关键词： | 视角 液晶显示器 阵列 制作方法 | ||
【主权项】：
一种广视角液晶显示器阵列基板制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板，在所述基板上依次形成透明导电薄膜和栅极金属层；在所述基板上涂布光敏材料，使用半色调掩膜版进行曝光并显影，形成不同厚度的光敏材料图形；在所述形成不同厚度的光敏材料图形的基板上，进行刻蚀形成第一透明电极；对所述形成透明电极的基板进行脱膜，去除光敏材料，形成栅极；依次在所述形成第一透明电极和栅极的基板上制作有源层、源漏极、保护层和第二透明电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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