[发明专利]非水性油墨湿式釉下彩自锐抛光陶质釉面砖制造方法有效

专利信息
申请号: 201110261937.0 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN102417373A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 叶德林;洪卫;李辉;黄诗成 申请(专利权)人: 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 周春发
地址: 528000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明一种非水性油墨湿式釉下彩自锐抛光陶质釉面砖制造方法,其特征在于,其制造方法包含如下步骤:原料配比→球磨→除铁→喷雾制粉→压制成型→素烧→湿式釉下彩装饰→釉烧→自锐抛光→磨边;其中,该自锐抛光为:为防止树脂抛光磨头在平滑釉面上钝化,在正常的抛光操作时,被抛光陶质釉面砖产品中加入粗糙面被抛光体,以该粗糙面被抛光体对抛光磨头进行磨擦,使磨头始终保持锋利状态。其优点为生产的制品既具有陶质砖的强度高,色彩鲜艳,图案纹理丰富,又具有抛光产品表明平整度高、光泽度好的抛光陶质釉面砖制品;同时其生产工艺具有工艺简单、生产成本低、烧成周期短、能耗低、抛光工艺简单,适合于规模化生产和普通消费者需求。
搜索关键词: 水性油墨 湿式釉下彩 抛光 釉面砖 制造 方法
【主权项】:
一种非水性油墨湿式釉下彩自锐抛光陶质釉面砖制造方法,其特征在于,其制造方法包含如下步骤:原料配比→球磨→除铁→喷雾制粉→压制成型→素烧→湿式釉下彩装饰→釉烧→自锐抛光→磨边;其中,该自锐抛光为:为防止树脂抛光磨头在平滑釉面上钝化,在正常的抛光操作时,被抛光陶质釉面砖产品中加入粗糙面被抛光体,以该粗糙面被抛光体对抛光磨头进行磨擦,使磨头始终保持锋利状态。
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