[发明专利]改性聚乙烯醇基膜及其制备方法和偏光片无效
| 申请号： | 201110234045.1 | 申请日： | 2011-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102432899A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 徐蕊;张维维;黄红青;黄俊杰;刘权;蔡荣茂;段惠芳 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L29/04;C08K9/06;C08K3/36;G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改性聚乙烯醇基膜及其制备方法和由所述改性聚乙烯醇基膜制得的偏光片。所述改性聚乙烯醇基膜的制备步骤包括：(1)采用氟硅烷对纳米二氧化硅进行表面接枝改性，以得到改性纳米二氧化硅粉末；(2)在聚乙烯醇聚合物的水溶液中加入步骤(1)获得的改性纳米二氧化硅粉末，以制备成聚乙烯醇聚合物复合溶液；以及(3)将步骤(2)制备的聚乙烯醇聚合物复合溶液浇铸在铸塑基板的表面上，以得到改性聚乙烯醇(PVA)基膜。本发明利用低表面能的氟硅烷改性纳米二氧化硅，进而交联改性PVA基膜，以提高PVA基膜的耐湿热性和稳定性，改善PVA基膜的机械性能和耐玷污性。 | ||
| 搜索关键词： | 改性 聚乙烯醇 及其 制备 方法 偏光 | ||
【主权项】：
一种改性聚乙烯醇基膜的制备方法，其特征在于，制备步骤包括：(1)采用氟硅烷对纳米二氧化硅进行表面接枝改性，以得到改性纳米二氧化硅粉末；(2)在聚乙烯醇聚合物的水溶液中加入步骤(1)获得的改性纳米二氧化硅粉末，以制备成聚乙烯醇聚合物复合溶液；(3)将步骤(2)制备的聚乙烯醇聚合物复合溶液浇铸在铸塑基板的表面上，以得到改性聚乙烯醇基膜。
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