[发明专利]一种提高水平井入靶成功率的方法有效
申请号: | 201110196741.8 | 申请日: | 2011-07-14 |
公开(公告)号: | CN102383787A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 刘舵;张书成;晏宁平;罗长斌;谢春勤;杨琼警;何鎏;李治;吕建 | 申请(专利权)人: | 中国石油天然气股份有限公司 |
主分类号: | E21B49/00 | 分类号: | E21B49/00 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 100007 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于水平井随钻分析技术领域,具体涉及一种提高水平井入靶成功率的方法。所述方法,包括如下步骤:(1)使用录井色谱气测仪器测量不同深度地层中C1值;(2)根据C1值在地层中的分布特征,来划分上段地层和下段地层。本发明在现场操作简单,经济实用;利用现有少量的随钻信息,结合上段地层和下段地层不同的沉积环境对应的不同沉积产物,来确定上段地层与下段地层的分界线,提高山西组煤系地层水平井的入靶成功率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 水平 井入靶 成功率 方法 | ||
【主权项】:
一种提高水平井入靶成功率的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)使用录井色谱气测仪器测量不同深度地层中C1值;(2)根据C1值在地层中的分布特征,来划分上段地层和下段地层。
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