[发明专利]等离子处理装置及供气构件支撑装置

摘要

本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。

主权项

一种等离子处理装置，其特征在于：其对被处理基板进行等离子处理，且包括：处理容器，包含位于下方侧的底部、及从所述底部的外周向上方向延伸的筒状侧壁，且可将所述被处理基板收纳于其内部；供气构件，配置在所述处理容器内的规定位置，且设有供给等离子处理用气体的供气口；多个支撑构件，以将所述供气构件及所述侧壁连结的方式，将所述供气构件隔开各自之间隔而设置；及安装部，可将所述支撑构件安装于所述侧壁；且所述支撑构件包含固定并安装于所述安装部的第一支撑构件、及以自由支撑的方式安装于所述安装部的第二支撑构件。