[发明专利]低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110141242.9 申请日: 2011-05-27
公开(公告)号: CN102709284A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 马占洁 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/786;H01L21/77
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 武晨燕;张颖玲
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种LTPS TFT阵列基板及其制作方法,该LTPS TFT阵列基板包括:基板;栅电极,形成于基板上方;栅绝缘层,覆盖于基板和栅电极上方;有源层,形成于栅绝缘层对应栅电极的上方;源漏电极,形成于有源层上方;像素电极,形成于源漏电极和栅绝缘层上方。本发明的LTPS TFT阵列基板采用底栅型TFT设计,将有源层和源漏电极通过一个掩模板经同一次光刻工艺得到,简化了制作流程,缩短了生产时间,降低了产品成本,提高了产品质量。
搜索关键词: 低温 多晶 薄膜晶体管 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
一种低温多晶硅薄膜晶体管LTPS TFT阵列基板,其特征在于,所述LTPSTFT阵列基板包括:基板、栅电极、栅绝缘层、有源层、源漏电极及像素电极;其中,栅电极,形成于基板上方;栅绝缘层,覆盖于基板和栅电极上方;有源层,形成于栅绝缘层对应栅电极的上方;源漏电极,形成于有源层上方;像素电极,形成于源漏电极和栅绝缘层上方。
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