[发明专利]可钢化的低辐射镀膜玻璃及其制备方法无效
| 申请号： | 201110060204.0 | 申请日： | 2011-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN102180600A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 蔡焱森;路海泉 | 申请（专利权）人： | 杭州春水镀膜玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 金祺 |
| 地址： | 311400 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可钢化的低辐射镀膜玻璃，在玻璃基片(1)的表面从下至上依次设置电介质层I(2)、电介质层II(3)、金属阻挡层I(4)、银层(5)、金属阻挡层II(6)、电介质层III(7)和电介质层IV(8)；电介质层I(2)与玻璃基片(1)的表面相连，电介质层I(2)和电介质层IV(8)为氧化硅层，电介质层II(3)和电介质层III(7)为氧化锌的锡酸盐层，金属阻挡层I(4)和金属阻挡层II(6)为镍铬合金层。本发明还同时公开了上述可钢化的低辐射镀膜玻璃的制备方法。本发明的可钢化的低辐射镀膜玻璃，具有热稳定性好、抗氧化性能好、膜层牢固度好、耐磨与耐碱性能好等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 可钢化 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是：在玻璃基片(1)的表面从下至上依次设置电介质层I(2)、电介质层II(3)、金属阻挡层I(4)、银层(5)、金属阻挡层II(6)、电介质层III(7)和电介质层IV(8)；所述电介质层I(2)与玻璃基片(1)的表面相连，电介质层I(2)和电介质层IV(8)为氧化硅层，电介质层II(3)和电介质层III(7)为氧化锌的锡酸盐层，金属阻挡层I(4)和金属阻挡层II(6)为镍铬合金层。
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