[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法有效
| 申请号： | 201110022027.7 | 申请日： | 2004-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102043350A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 控制 | ||
【主权项】：
一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于具备：投影光学系统，将图形像投影到基板上；液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间；和液体回收机构，回收由上述液体供给机构供给的液体，在基于由上述液体供给机构所供给的液体的供给量和由上述液体回收机构所回收的液体的回收量的至少一方检测出异常时停止液体的供给。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110022027.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
