[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法

权利要求书

1.一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于具备：

投影光学系统，将图形像投影到基板上；

液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间；和

液体回收机构，回收由上述液体供给机构供给的液体，

在基于由上述液体供给机构所供给的液体的供给量和由上述液体回收机构所回收的液体的回收量的至少一方检测出异常时停止液体的供给。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于具备：

流量计，检测由上述液体供给机构所供给的液体的量，

当在上述流量计所测量的液体的供给量检测出异常时，停止液体的供给。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

在基于由上述液体供给机构所供给的液体的供给量和由上述液体回收机构所回收的液体的回收量检测出异常时停止液体的供给。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

为了防止因液体的附着而引起的漏电，当检测到上述异常时停止向上述电气设备的供电。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于包括：

保持上述基板并且可以移动的基板台，

上述电气设备包含用于使上述基板台移动的线性电动机。

6.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于还包括：

吸气口，

为了防止液体的流入，当检测到上述异常时停止从上述吸气口的吸气。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于包括：

空气轴承，具有上述吸气口且用于相对导向面非接触地使上述可动构件移动，

上述吸气口对上述可动构件与上述导向面之间的气体进行吸气。

8.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供给机构在检测出保持上述基板并且可以移动的可动构件与上述投影光学系统的位置关系的异常时，停止液体的供给。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于：

上述异常的位置关系为不能在上述投影光学系统之下保持液体的状态。

10.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于包括：

检测器，检测液体的泄漏；和

控制装置，基于上述检测器的检测结果对装置的动作进行控制。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

上述检测器分别设于多个预定位置，

上述控制装置依照检测出液体的泄漏的检测器的位置，选择停止上述液体供给机构的液体供给和停止向上述电气设备的供电中的至少一个动作。

12.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于还包括：

电气设备，

上述控制装置依照使用上述检测器检测出的液体的泄漏量，选择停止上述液体供给机构的液体供给和停止向上述电气设备的供电中的至少一个动作。

13.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在保持上述基板的基板台。

14.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在可移动地支承保持上述基板的基板台的底座构件。

15.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在用于移动保持上述基板的基板台的电磁驱动源的周边。

16.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器配置在设于保持上述基板的基板台的液体回收口的内部。

17.根据权利要求16所述的曝光装置，其特征在于：

在保持于上述基板台的基板的周围具有与该基板的表面处于同一平面的平坦部分，上述液体回收口设于上述平坦部分的外侧。

18.根据权利要求16所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体回收口包含形成为围住上述基板的周围的槽部。

19.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述检测器光学地检测液体的泄漏。