[发明专利]选择纹理映射水平的方法及利用该方法的材质贴图系统有效

专利信息
申请号: 201080068772.9 申请日: 2010-08-27
公开(公告)号: CN103080981A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 朴祐赞;尹亨敏 申请(专利权)人: 矽锂铬艺术有限公司;世宗大学校产学协力团
主分类号: G06T15/04 分类号: G06T15/04
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 韩国首尔特别市江东*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种基于材质贴图用于全局光照的选择纹理映射水平的方法。该选择纹理映射水平的方法确定屏幕上的至少一个对象的对象信息。该对象信息可以包括数量、形状、以及屏幕上对象的组成和/或屏幕上相关对象的空间位置。基于该对象信息,确定选择纹理映射的算法。该选择纹理映射的算法包括光线追踪和/或距离测量,其中光线追踪基于相邻光线的微分值选择纹理映射,以及距离测量通过计算距离选择纹理映射,其中,像素和纹理的比例达到1:1。基于确定的方法,选择纹理映射水平。
搜索关键词: 选择 纹理 映射 水平 方法 利用 材质 贴图 系统
【主权项】:
一种基于材质贴图用于全局光照的选择纹理映射水平的方法,所述方法包括:(a)识别屏幕上至少一个对象的对象信息,所述对象信息包括所述至少一个对象的数量、所述至少一个对象的形状、所述屏幕中所述至少一个对象的材质和/或相应对象在所述屏幕的空间中的位置;(b)基于所述对象信息确定选择纹理映射水平的算法,所述选择纹理映射水平的算法包括微分方法和/或距离测量方法,所述微分方法基于相邻光线的微分值选择纹理映射,以及所述距离测量方法通过计算距离选择纹理映射,其中,像素和纹理的比例设定为1:1;以及(c)基于所述确定的方法选择纹理映射水平。
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