[发明专利]选择纹理映射水平的方法及利用该方法的材质贴图系统有效
申请号: | 201080068772.9 | 申请日: | 2010-08-27 |
公开(公告)号: | CN103080981A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 朴祐赞;尹亨敏 | 申请(专利权)人: | 矽锂铬艺术有限公司;世宗大学校产学协力团 |
主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 韩国首尔特别市江东*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种基于材质贴图用于全局光照的选择纹理映射水平的方法。该选择纹理映射水平的方法确定屏幕上的至少一个对象的对象信息。该对象信息可以包括数量、形状、以及屏幕上对象的组成和/或屏幕上相关对象的空间位置。基于该对象信息,确定选择纹理映射的算法。该选择纹理映射的算法包括光线追踪和/或距离测量,其中光线追踪基于相邻光线的微分值选择纹理映射,以及距离测量通过计算距离选择纹理映射,其中,像素和纹理的比例达到1:1。基于确定的方法,选择纹理映射水平。 | ||
搜索关键词: | 选择 纹理 映射 水平 方法 利用 材质 贴图 系统 | ||
【主权项】:
一种基于材质贴图用于全局光照的选择纹理映射水平的方法,所述方法包括:(a)识别屏幕上至少一个对象的对象信息,所述对象信息包括所述至少一个对象的数量、所述至少一个对象的形状、所述屏幕中所述至少一个对象的材质和/或相应对象在所述屏幕的空间中的位置;(b)基于所述对象信息确定选择纹理映射水平的算法,所述选择纹理映射水平的算法包括微分方法和/或距离测量方法,所述微分方法基于相邻光线的微分值选择纹理映射,以及所述距离测量方法通过计算距离选择纹理映射,其中,像素和纹理的比例设定为1:1;以及(c)基于所述确定的方法选择纹理映射水平。
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