[发明专利]选择纹理映射水平的方法及利用该方法的材质贴图系统有效
| 申请号： | 201080068772.9 | 申请日： | 2010-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN103080981A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 朴祐赞;尹亨敏 | 申请（专利权）人： | 矽锂铬艺术有限公司;世宗大学校产学协力团 |
| 主分类号： | G06T15/04 | 分类号： | G06T15/04 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 韩国首尔特别市江东*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 选择 纹理 映射 水平 方法 利用 材质 贴图 系统 | ||
1.一种基于材质贴图用于全局光照的选择纹理映射水平的方法，所述方法包括：
(a)识别屏幕上至少一个对象的对象信息，所述对象信息包括所述至少一个对象的数量、所述至少一个对象的形状、所述屏幕中所述至少一个对象的材质和/或相应对象在所述屏幕的空间中的位置；
(b)基于所述对象信息确定选择纹理映射水平的算法，所述选择纹理映射水平的算法包括微分方法和/或距离测量方法，所述微分方法基于相邻光线的微分值选择纹理映射，以及所述距离测量方法通过计算距离选择纹理映射，其中，像素和纹理的比例设定为1:1；以及
(c)基于所述确定的方法选择纹理映射水平。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述步骤(b)进一步包括：
(b1)识别被提供图像的图像质量和/或处理速度的需求水平；以及
(b2)基于所述识别的结果确定所述选择纹理映射水平的算法。
3.如权利要求2所述的方法，其中，步骤(b2)包括：根据识别的结果，当相应对象的所述图像质量的所述需求水平更高时，选择微分方法作为所述选择纹理映射的算法。
4.如权利要求2所述的方法，其中，步骤(b2)包括：根据识别的结果，当相应对象的所述操作速度的所述需求水平更高时，选择距离测量方法作为所述选择纹理映射的算法。
5.如权利要求4所述的方法，其中，所述步骤(c)包括：
(c1)基于纹理的大小和屏幕的大小，计算对应于纹理的像素的大小；
(c2)基于对应于纹理三角形的三个顶点的纹理坐标，计算纹理的数量；
(c3)基于所述步骤(c1)和(c2)计算的值，计算所述三角形的大小；
(c4)基于对应于给定三角形的三个顶点的模型坐标，计算所述给定三角形的大小；
(c5)基于所述步骤(c3)和(c4)计算出的值，计算距离，其中像素和纹理的比例设定为1:1；以及
(c6)基于计算出的所述距离，选择纹理映射水平。
6.如权利要求5所述的方法，其中，所述步骤(c1)包括根据下面的数学方程式计算对应于所述纹理的所述像素的大小。
在这里，“Xps”是对应于所述像素的所述纹理的大小，“Texturesize”是纹理的大小，以及“Resolution”是显示的屏幕的大小。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽锂铬艺术有限公司;世宗大学校产学协力团，未经矽锂铬艺术有限公司;世宗大学校产学协力团许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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