[发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积系统无效
| 申请号： | 201080067349.7 | 申请日： | 2010-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN103097568A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 姜敞晧;权铉九;玄在根 | 申请（专利权）人： | SNU精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;王小东 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备使得基板和沉积掩膜的布置/对准时间的处理等待时间最短。为此，所述薄膜沉积设备包括：室，该室具有反应空间；第一基板保持件和第二基板保持件，在所述室中，在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间设置有用于接收基板的空间；沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向所述第一基板保持件和所述第二基板保持件供应沉积材料；以及固定单元，当所述基板被接收在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件中时，该固定单元将所述第一基板保持件和所述第二基板保持件放置在所述室中的预定位置。因而，能够实现基板和掩膜的稳定对准。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 系统 | ||
【主权项】：
一种膜沉积设备，该膜沉积设备包括：室，在该室中形成有反应空间；第一基板保持件和第二基板保持件，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件构造成在其内容纳基板并且所述第一基板保持件和所述第二基板保持件彼此间隔开；沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向基板供应沉积材料；以及固定单元，当所述基板分别容纳在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件中时，该固定单元使得所述第一基板保持件和所述第二基板保持件固定在所述室中的预定位置处达预定时间。
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