[发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积系统

说明书

技术领域

本发明涉及膜沉积设备，并且更具体地涉及用于在基板上沉积膜的膜沉积设备和膜沉积系统。

背景技术

作为自发光装置的有机发光二极管（OLED）不需要背光源并且比LCD更加节能。此外，由于OLED具有广视角和高响应速度，因此利用OLED形成的显示器能够显示既不具有视角问题也不具有余像问题的高质量图像。

这样的OLED通过将多个膜（例如有机膜或金属膜）堆叠在玻璃基板上来制造。为了沉积多个膜，常规上，主要使用聚类方法，在该聚类方法中，在绕圆形输送室布置并且连接到该圆形输送室的多个单元室中执行一系列单元处理。在聚类方法中，玻璃基板在这些室之间以水平位置被输送并且然后经受装置处理。聚类方法能够连续且快速地执行一系列处理，并且因为聚类方法允许容易更换主要用于制造OLED的沉积掩膜，因此该聚类方法也是有利的。

近来，基于利用精细金属掩膜（FMM）在大型基板上顺序地形成蓝色（B）、绿色（G）和红色（R）发光层的所谓三色独立像素方案的OLED已引人关注。三色独立像素方案实现有优良的色纯度和光效率并且还是成本有效的。

然而，由于三色独立像素方案必须在独立的处理室中顺序地形成蓝色（B）、绿色（G）和红色（R）发光层，因此其中用于执行单元处理的处理室沿直线排列的直列架构适于三色独立像素方案。因而，常规的聚类方法必须被转换成直列架构。然而，直列架构的缺点在于，在建立生产线时由于显著的设备叠置而增加成本并且由于处理速度慢而降低生产率。

同时，由于常规的聚类方法在水平放置的基板上进行膜沉积（有机膜沉积），因此基板偏转显著，这对制造装置带来许多困难。而且，用于大型基板的沉积掩膜由于它们达至数百千克重的重量而使得基板偏转更加显著，这也造成诸如基板破裂的严重问题。

发明内容

[技术问题]

因而，下列说明涉及通过一起处理多个基板并且使得用于基板和掩膜的沉积/布置的准备时间（lead time）最短而能够实现高生产率的膜沉积设备以及包括该膜沉积设备的膜沉积系统。

而且，下列说明涉及通过在两个或更多个处理步骤中共享共同使用的设备而能够节省用于建立生产线的成本的膜沉积设备以及包括该膜沉积设备的膜沉积系统。

而且，下列说明涉及通过在将基板竖直地立起之后执行膜沉积而能够防止基板掉落的膜沉积设备以及包括该膜沉积设备的膜沉积系统。

[技术方案]

根据本发明，提供了一种膜沉积设备，该膜沉积设备包括：室，在该室中形成反应空间；第一基板保持件和第二基板保持件，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件构造成在其中容纳基板并且彼此间隔开；沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向所述基板供应沉积材料；以及固定单元，当所述基板分别容纳在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件中时，该固定单元使得所述第一基板保持件和所述第二基板保持件固定在所述室中的预定位置处达预定时间。

根据本发明，提供了一种膜沉积系统，该膜沉积系统包括：多个单元；以及第一处理线路和第二处理线路，所述第一处理线路和所述第二处理线路分别安装在所述多个单元中，其中，所述多个单元中的至少一个单元包括：第一基板保持件，该第一基板保持件形成所述第一处理线路；第二基板保持件，该第二基板保持件形成所述第二处理线路并且与所述第一基板保持件间隔开；以及沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向所述基板供应沉积材料。

[有利效果]

因此，根据本发明，由于借助安装在处理室中的沉积源在设置于每个处理室中的多个处理线路上连续地执行膜沉积，因此能够实现成本的降低和生产率的提高。

而且，由于在每个处理室中被输送的第一基板保持件和第二基板保持件被固定在所述处理室中的预定位置，因此能够提高布置基板/掩膜的可靠性。

而且，由于当在一个处理线路上对一个基板执行膜沉积时，在另一处理线路上执行相对于另一基板的基板输送和基板/掩膜布置，因此能够减少准备时间，这进一步提高了生产率。

另外，由于基板在水平位置中被输送以防止基板损坏并且在处于竖直地立起状态下的基板上执行膜沉积，因此减少基板掉落，这有利于装置的制造。

附图说明

图1是示出根据一实施方式的膜沉积系统的平面图。

图2是示出包括在图1的膜沉积系统中的膜沉积设备的平面图。