[发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积系统

权利要求书

1.一种膜沉积设备，该膜沉积设备包括：

室，在该室中形成有反应空间；

第一基板保持件和第二基板保持件，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件构造成在其内容纳基板并且所述第一基板保持件和所述第二基板保持件彼此间隔开；

沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向基板供应沉积材料；以及

固定单元，当所述基板分别容纳在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件中时，该固定单元使得所述第一基板保持件和所述第二基板保持件固定在所述室中的预定位置处达预定时间。

2.根据权利要求1所述的膜沉积设备，其中，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件将所述基板支承为相对于地面垂直。

3.根据权利要求2所述的膜沉积设备，其中，所述固定单元包括：

固定部，该固定部构造成允许从所述第一基板保持件的底部和所述第二基板保持件的底部向上插入；以及

升降部，当所述第一基板保持件和所述第二基板保持件被固定在所述预定位置时，该升降部的至少一部分插入所述固定部中或者从所述固定部抽出。

4.根据权利要求3所述的膜沉积设备，该膜沉积设备还包括行进控制单元，该行进控制单元用于限制所述第一基板保持件和所述第二基板保持件沿一方向的行进。

5.根据权利要求4所述的膜沉积设备，其中，所述行进控制单元包括：

引导部，该引导部定位成与所述第一基板保持件和所述第二基板保持件各自的两侧相邻，以引导所述第一基板保持件和所述第二基板保持件的运动；以及

驱动部，该驱动部使得所述引导部靠近或远离所述第一基板保持件和所述第二基板保持件移动。

6.根据权利要求5所述的膜沉积设备，其中，所述引导部是布置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件各自的两侧的多个辊。

7.根据权利要求2所述的膜沉积设备，其中，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件均包括：

支承板，该支承板用于供安装基板以及固定所述基板；以及

夹子，该夹子用于固定安装在所述支承板上的所述基板。

8.根据权利要求2所述的膜沉积设备，其中，所述第一基板保持件和所述第二基板保持件均还包括驱动单元，该驱动单元用于竖直地立起所述支承板或者用于水平地放置所述支承板。

9.根据权利要求1所述的膜沉积设备，其中，所述沉积源能够在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间旋转。

10.根据权利要求1所述的膜沉积设备，其中，所述沉积源是点式沉积源、线式沉积源以及面式沉积源中的一种。

11.根据权利要求1所述的膜沉积设备，其中，所述室与掩膜室连接，所述掩膜室用于将沉积掩膜分别供应到所述第一基板保持件和所述第二基板保持件或者用新的沉积掩膜来更换所述沉积掩膜。

12.一种膜沉积系统，该膜沉积系统包括：

多个单元；以及

第一处理线路和第二处理线路，所述第一处理线路和所述第二处理线路分别安装在所述多个单元中，

其中，所述多个单元中的至少一个单元包括：

第一基板保持件，该第一基板保持件形成所述第一处理线路；

第二基板保持件，该第二基板保持件形成所述第二处理线路并且与所述第一基板保持件间隔开；以及

沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向基板供应沉积材料。

13.根据权利要求12所述的膜沉积系统，其中，所述沉积源能够在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间旋转。

14.根据权利要求12所述的膜沉积系统，其中，所述沉积源是点式沉积源、线式沉积源以及面式沉积源中的一种。

15.根据权利要求12所述的膜沉积系统，其中，所述多个单元包括：

多个处理单元，这些处理单元用于执行单元处理；以及

多个减振器，这些减振器分别被插入所述多个处理单元之间。

16.根据权利要求15所述的膜沉积系统，其中，每个处理单元均连接到掩膜容纳单元，该掩膜容纳单元用于提供新的沉积掩膜或者用新的沉积掩膜来更换所述沉积掩膜。