[发明专利]具有应变材料的半导体装置有效
| 申请号: | 201080061272.2 | 申请日: | 2010-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN102714183A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
| 发明(设计)人: | 海宁·杨 | 申请(专利权)人: | 高通股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/8246 | 分类号: | H01L21/8246;H01L27/112;H01L21/762;H01L21/8238;H01L29/08;H01L29/78 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 宋献涛 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明揭示具有应变材料的半导体装置。在特定实施例中,所述半导体装置包含第一单元,所述第一单元包含位于第一漏极与第一源极之间的第一栅极。所述半导体装置还包含邻近所述第一单元的第二单元。所述第二单元包含位于第二漏极与第二源极之间的第二栅极。所述半导体装置进一步包含浅沟槽隔离区域,其位于所述第一源极与所述第二源极之间。所述第一源极上以及所述第二源极上的应变材料的第一量大于所述第一漏极上以及所述第二漏极上的应变材料的第二量。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 应变 材料 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种方法,其包括:将应变材料施加到包括多个单元的半导体装置,所述单元中的至少两者彼此邻近,其中所述至少两个单元中的第一者包括第一源极,且所述至少两个单元中的第二者包括第二源极,其中所述第一源极接近所述第二源极,且其中浅沟槽隔离区域位于所述第一源极与所述第二源极之间,且其中所述应变材料的至少一部分沉积在所述第一源极与所述第二源极之间的所述浅沟槽隔离区域上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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