[发明专利]基体的表面处理的方法和实施该方法的装置有效
| 申请号： | 201080060412.4 | 申请日： | 2010-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102725127A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 克劳斯·卡尔瓦尔 | 申请（专利权）人： | 克劳斯·卡尔瓦尔 |
| 主分类号： | B29C59/12 | 分类号： | B29C59/12;H01T19/00;C23C16/54;B05D7/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 沈英莹 |
| 地址： | 德国施*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 用于借助于电晕放电对基体（28）表面处理的方法，其中在放电过程中将气溶胶（5）喷射到通过在电晕电极与基体（28）之间形成的有效间隙确定的放电区域内，该方法这样构造，使得基本上相反于重力方向进行气溶胶（5）的喷射。 | ||
| 搜索关键词： | 基体 表面 处理 方法 实施 装置 | ||
【主权项】：
用于借助于电晕放电对基体（28）进行表面处理的方法，其中在放电过程中将气溶胶（5）喷射到通过在电晕电极与基体（28）之间形成的有效间隙限定的放电区域内，其特征在于，基本上相反于重力方向进行气溶胶（5）的喷射。
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