[发明专利]粒体研磨装置、铸造用砂再生装置以及微粒生成装置无效
| 申请号: | 201080056537.X | 申请日: | 2010-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN102655964A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
| 发明(设计)人: | 松川安次 | 申请(专利权)人: | 松川安次 |
| 主分类号: | B22C5/04 | 分类号: | B22C5/04;B24B11/06 |
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔香丹;张永康 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的目的在于提供一种能够有效地良好地进行粒体研磨的粒体研磨装置,并且提供一种适用该粒体研磨装置的铸造用砂再生装置和微粒生成装置。粒体研磨装置,其包括:容器(10),其收纳粒体(2);驱动轴(23),其被可旋转驱动地支承于容器(10);研磨盘(30),其具有被固定于驱动轴(23)并形成有相对于驱动轴(23)的轴方向垂直的圆盘面的圆盘状盘主体(31),并于该盘主体(31)两侧的圆盘面中的至少一者的圆盘面形成研磨面(32);流动设备(40),其通过从容器(10)的底面部送风来使粒体(2)以悬浮状态进行流动而形成浸渍研磨面(32)的至少一部分的流动层(S)。 | ||
| 搜索关键词: | 研磨 装置 铸造 再生 以及 微粒 生成 | ||
【主权项】:
一种粒体研磨装置,其包括:容器,该容器收纳粒体;驱动轴,该驱动轴被可旋转驱动地支承于所述容器;研磨盘,该研磨盘具有被固定于所述驱动轴并形成有相对于所述驱动轴的轴方向垂直的圆盘面的圆盘状的盘主体,并于该盘主体两侧的所述圆盘面中的至少一者的所述圆盘面形成研磨面;以及流动设备,该流动设备通过从所述容器的底面部送风来使所述粒体以悬浮状态进行流动而形成浸渍所述研磨面的至少一部分的流动层。
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