[发明专利]具备洁净室功能的手套箱及利用该手套箱的传送系统无效
| 申请号： | 201080053769.X | 申请日： | 2011-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN102859644A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 金哲永 | 申请（专利权）人： | 莫泰克有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种去除氧及水分来提供清洁的工序环境的手套箱及利用该手套箱的传送系统，能够提供一种具备洁净室功能的手套箱及利用该手套箱的传送系统，上述手套箱包括：过滤机构（110），设置于在手套箱所具备的工序腔室（B）的上部及下部所设置的上部构造物（A）及下部构造物（C），使工序腔室（B）的内部空气向外部循环而过滤灰尘；静电去除机构（120），设置于上部构造物（A），去除由于灰尘产生的静电；以及腔室机构（130），为了进行工序作业而设置于工序腔室（B）。 | ||
| 搜索关键词： | 具备 洁净室 功能 手套 利用 传送 系统 | ||
【主权项】：
一种具备洁净室功能的手套箱，去除氧及水分来提供清洁的工序环境，包括：过滤机构（110），设置于在上述手套箱所具备的工序腔室（B）的上部及下部所设置的上部构造物（A）及下部构造物（C），使上述工序腔室（B）的内部空气向外部循环而过滤灰尘；静电去除机构（120），设置于上述上部构造物（A），去除由于灰尘产生的静电；以及腔室机构（130），为了进行工序作业而设置于上述工序腔室（B）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于莫泰克有限公司，未经莫泰克有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080053769.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
