[发明专利]制备青蒿素的光化学法有效

专利信息
申请号: 201080049390.1 申请日: 2010-09-01
公开(公告)号: CN102596967A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: J.戴瑙特;A.德鲁巴拉;R.格维尔;A.梅达德;G.奥唐;N.雷蒙德;J.特康尼 申请(专利权)人: 赛诺菲
主分类号: C07D493/22 分类号: C07D493/22;C07C69/96
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 封新琴
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 本申请提供了新的制备青蒿素的光化学方法。本申请也提供了用于制备青蒿素的某些二氢青蒿酸衍生物。
搜索关键词: 制备 青蒿素 光化学
【主权项】:
1.制备青蒿素的方法,包括以下步骤:-制备混合物,该混合物包含(i)式(I)的二氢青蒿酸衍生物其中-X是O、S、NH或NO,-Y是选自式(II)、(III)和(IV)的基团或者当X是O时,Y可以表示OR4-R1和R2彼此独立地为氢;C3-C10环烷基基团或直链或支化的C1-C12烷基基团,所述烷基基团是未取代的或由一个或多个选自C1-C6烷基基团和卤素的取代基取代;三氟甲基基团;环烷基烷基基团,其中环烷基和烷基按以上定义;直链或支化的C2-C12链烯基基团,所述链烯基基团是未取代的或由一个或多个选自C1-C6烷基基团和卤素的取代基取代;C5-C14芳基或杂芳基基团,所述芳基或杂芳基基团是未取代的或由一个或多个选自C1-C6烷基基团和卤素的取代基取代;芳基烷基基团,其中芳基和烷基按以上定义;或杂芳基烷基基团,其中杂芳基和烷基按以上定义;-R3是R1、OR1、NHR1或NR1R2,其中R1和R2按以上定义;-R4等同于R1,所不同的是R4不能表示氢或者R4表示甲硅烷基基团;(ii)至少一种有机溶剂和(iii)光敏剂,-借助于光源使所述混合物经受光致氧化作用,和-回收由此获得的青蒿素。
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