[发明专利]曝光装置

摘要

本发明涉及一种曝光装置，其具备：输送机构(1)，其上表面载置被曝光体(7)并将其沿一定方向输送；空间光调制机构(3)，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件(9)沿与被曝光体(7)的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光束整形机构(4)，其将从各光调制元件(9)射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构(6)，其个别地驱动各光调制元件(9)，对空间光调制机构(3)的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，各光调制元件(9)，与其光轴正交的横截面形状形成为在被曝光体(7)的输送方向长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，控制机构(6)使光束整形机构(4)沿所述输送方向移动。由此，提高利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，具备：输送机构，其上表面载置被曝光体并将其沿一定方向输送；空间光调制机构，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件在与所述输送机构的上表面平行的面内沿与所述被曝光体的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光束整形机构，其将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构，其个别地驱动所述各光调制元件，对所述空间光调制机构的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，所述各光调制元件，与其光轴正交的横截面形状形成为在所述被曝光体的输送方向上长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，所述控制机构使所述光束整形机构相对于所述多个光调制元件沿所述输送方向相对移动。