[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及将被曝光体一边沿一定方向输送一边利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成规定的图案在被曝光体上进行曝光的曝光装置，详细而言，涉及提高由多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度的曝光装置。

背景技术

现有的这种曝光装置具备：将被曝光体载置于上表面并保持的载物台；配设于载物台的上方且放射光的光源；空间光调制机构，其配设于载物台和光源之间，与平行于由电光学结晶材料构成的细长部材的长轴方向的侧面相面对地将设有一对电极的多个光调制元件以其两端部为光从光源的入射端面及射出端面二维并排，将各光调制元件的透射光进行光调制，生成规定的图案，并在被曝光体上进行曝光；个别驱动控制空间光调制机构的各光调制元件而生成规定的图案的控制机构(例如参照专利文献1)。

专利文献1：特开2007-310251号公报

但是，这种现有的曝光装置中，由空间光调制机构的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位通常需要使空间光调制机构或被曝光体的任一方在与载物台的上表面平行的面内沿与被曝光体的输送方向大致正交的方向移动来进行，上述对位精度受到对准机构的机械的精度的限制。因此，难以以向被曝光体上照射的曝光像素的分解能以下的精度进行上述对位。

发明内容

因此，本发明应对这样的问题点，其目的在于，提供一种曝光装置，提高利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度。

为实现上述目的，本发明提供一种曝光装置，其具备：输送机构，其上表面载置被曝光体并将其沿一定方向输送；空间光调制机构，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件在与所述输送机构的上表面平行的面内沿与所述被曝光体的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光束整形机构，其将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构，其个别地驱动所述各光调制元件，对所述空间光调制机构的透射光进行接通、断开控制，生成规定的图案，所述各光调制元件，与其光轴正交的横截面形状形成为在所述被曝光体的输送方向长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，所述控制机构使所述光束整形机构相对于所述多个光调制元件沿所述输送方向相对移动。

根据这种构成，由输送机构在上表面载置被曝光体并将其沿一定方向进行输送，由控制机构个别地控制在与输送机构的上表面平行的面内沿与被曝光体的输送方向交差的方向以规定的排列间距至少排列成一列，将与光轴正交的横截面形状形成为在被曝光体的输送方向长的大致长方形状，同时，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成的由电光学结晶材料构成的空间光调制机构的多个光调制元件，对空间光调制机构的透射光进行接通、断开控制，生成规定的图案，进而使将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度的光束整形机构相对于所述多个光调制元件沿所述输送方向相对移动。

另外，所述各光调制元件沿所述被曝光体的输送方向隔开规定距离并排有二列。由此，由在被曝光体的输送方向隔开规定距离并排成二列的多个光调制元件生成规定的图案。

另外，所述光束整形机构具备形成有在与所述被曝光体的输送方向交差的方向长的细长状的开口的遮光掩模而构成，将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度。由此，由具备形成有在与被曝光体的输送方向交差的方向长的细长状的开口的遮光掩模而构成的光束整形机构将向各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的输送方向的宽度限制在规定宽度。

另外，所述光束整形机构具备在与所述被曝光体的输送方向交差的方向长的细长状的柱面透镜而成，将向所述各光调制元件入射的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度。由此，利用具备在与被曝光体的输送方向交差的方向长的细长状的柱面透镜而构成的光束整形机构将向各光调制元件入射的光的输送方向的宽度限制在规定宽度。