[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，

具备：

输送机构，其上表面载置被曝光体并将其沿一定方向输送；

空间光调制机构，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件在与所述输送机构的上表面平行的面内沿与所述被曝光体的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；

光束整形机构，其将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；

控制机构，其个别地驱动所述各光调制元件，对所述空间光调制机构的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，

所述各光调制元件，与其光轴正交的横截面形状形成为在所述被曝光体的输送方向上长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，

所述控制机构使所述光束整形机构相对于所述多个光调制元件沿所述输送方向相对移动。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述各光调制元件沿所述被曝光体的输送方向隔开规定距离并排有二列。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述光束整形机构具备遮光掩模而构成，所述遮光掩模形成有在与所述被曝光体的输送方向交差的方向上长的细长状的开口，将向所述各光调制元件入射、或从各光调制元件射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度。

4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述光束整形机构具备在与所述被曝光体的输送方向交差的方向长的细长状的柱面透镜而成，将向所述各光调制元件入射的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度。

5.如权利要求1～4中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制机构，在使透过了所述各光调制元件的光向所述被曝光体上的照射位置沿与所述被曝光体的输送方向交差的方向错位的情况下，在其错位量为所述各光调制元件的排列间距的整数倍以上时，将所述各光调制元件位移与所述排列间距的整数倍相等的距离而进行驱动，不足所述排列间距的错位量，可以通过将所述光束整形机构沿所述被曝光体的输送方向移动规定距离而设定。

6.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

在由所述光束整形机构限制的光的所述输送方向的宽度为w时，

所述并排成二列的多个光调制元件的列间距离被设定为nw，其中n为正整数，

所述控制机构，每次在所述被曝光体移动w时，向所述二列光调制元件中位于所述输送方向的前侧的一列的各光调制元件传送规定的驱动图案，且向位于所述输送方向的后侧的一列各光调制元件，传送与相对于位于所述输送方向的前侧的一列的各光调制元件n次前传送的驱动图案相同的驱动图案。