[发明专利]保护膜形成用原料液、保护膜、带有保护膜的布线基板

摘要

本发明提供密合性高的保护膜和可得到该保护膜的原料液。本发明是含有聚酰亚胺树脂成分、感光剂和封端异氰酸酯的原料液，所述聚酰亚胺树脂成分含有下述化学式（1）所示的聚酰亚胺树脂，对于形成布线基板（10）的保护膜之前的涂布对象物，将原料液涂布在涂布对象物的配置了金属布线膜（12）的表面上，通过涂布、干燥使溶剂蒸发，形成覆盖金属布线膜（12）的光聚合性膜，通过曝光?显影部分地除去光聚合成膜，并通过加热进行固化，形成使金属布线膜（12）部分地暴露、同时覆盖其他部分的保护膜（13），得到布线基板（10）。在形成图案后进行交联，与金属膜的密合性高。（式（1）中，R¹和R²各自独立地是可被取代的亚烷基，m为1～30的整数，n为0～20的整数。）

主权项

1.保护膜用原料液，其是含有聚酰亚胺树脂成分、感光剂、交联剂和溶剂的保护膜用原料液，其中，上述交联剂含有封端异氰酸酯成分，上述聚酰亚胺树脂成分含有将二胺成分和酸二酐成分进行酰亚胺化而成的聚酰亚胺树脂，所述二胺成分含有以下式（1）表示的含有酰胺基的硅氧烷二胺化合物，[化9]式（1）中，R¹和R²各自独立地是可被取代的亚烷基，m为1～30的整数，n为0～20的整数，所述酸二酐成分含有选自均苯四甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸二酐、3，3’4，4’-二苯基醚四甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯基砜四甲酸二酐、2，2’-双（3，4-二羧基苯基）丙烷二酐、1，4，5，8-萘四甲酸二酐、4，4’-（六氟异亚丙基）二酞酸二酐、9，9-双（3，4-二羧基苯基）芴酸二酐、9，9-双［4-（3，4-二羧基苯氧基）苯基］芴酸二酐和1，2，3，4-环丁酸二酐中的至少一种的芳香族酸二酐，上述封端异氰酸酯成分含有将六亚甲基二异氰酸酯化合物的异氰酸酯基封闭而成的封端异氰酸酯化合物，如果在涂布对象物上涂布该保护膜用原料液，并使上述溶剂蒸发而形成光反应性膜，则上述光反应性膜具有光溶解性。