[实用新型]用于化学气相沉积设备的连接管道有效
| 申请号： | 201020679260.3 | 申请日： | 2010-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN201962353U | 公开（公告）日： | 2011-09-07 |
| 发明（设计）人： | 许亮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;F04B53/16 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于化学气相沉积设备的连接管道，所述化学气相沉积设备包括：反应腔室和真空泵；所述连接管道包括：与所述反应腔室连接的第一管道；与所述真空泵连接的第二管道；连接所述第一管道和第二管道的连接盒；所述第一管道包括位于所述连接盒内的第一弯形管道，所述第一弯形管道具有第一自由口；所述第二管道包括位于所述连接盒内的第二弯形管道，所述第二弯形管道具有第二自由口；所述第一自由口与所述第二自由口相背。通过本实用新型提供的连接管道，减少了气态杂质颗粒进入真空泵，从而避免影响真空泵转子的工作，进一步的，提高了真空泵的寿命，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 沉积 设备 连接 管道 | ||
【主权项】：
一种用于化学气相沉积设备的连接管道，所述化学气相沉积设备包括：反应腔室和真空泵；其特征在于，所述连接管道包括：与所述反应腔室连接的第一管道；与所述真空泵连接的第二管道；连接所述第一管道和第二管道的连接盒；所述第一管道包括位于所述连接盒内的第一弯形管道，所述第一弯形管道具有第一自由口；所述第二管道包括位于所述连接盒内的第二弯形管道，所述第二弯形管道具有第二自由口；所述第一自由口与所述第二自由口相背。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
