[实用新型]用于化学气相沉积设备的连接管道有效
申请号: | 201020679260.3 | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN201962353U | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 许亮 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;F04B53/16 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 设备 连接 管道 | ||
1.一种用于化学气相沉积设备的连接管道,所述化学气相沉积设备包括:反应腔室和真空泵;
其特征在于,所述连接管道包括:与所述反应腔室连接的第一管道;
与所述真空泵连接的第二管道;
连接所述第一管道和第二管道的连接盒;
所述第一管道包括位于所述连接盒内的第一弯形管道,所述第一弯形管道具有第一自由口;
所述第二管道包括位于所述连接盒内的第二弯形管道,所述第二弯形管道具有第二自由口;
所述第一自由口与所述第二自由口相背。
2.如权利要求1所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述第一弯形管道与所述第二弯形管道呈中心对称设置。
3.如权利要求1所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述第一管道包括位于所述连接盒外的第一竖直管道,所述第一竖直管道与所述第一弯形管道连通,所述第一竖直管道具有与所述反应腔室连接的第一连接口。
4.如权利要求1所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述第二管道包括位于所述连接盒外的第二竖直管道,所述第二竖直管道与所述第二弯形管道连通,所述第二竖直管道具有与所述真空泵连接的第二连接口。
5.如权利要求1所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述连接管道还包括用于承载杂质的抽屉,所述抽屉设置于所述连接盒内靠近第二弯形管道的墙上。
6.如权利要求5所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述抽屉的数量为两个,两个所述抽屉分别位于所述第二弯形管道的两侧。
7.如权利要求5所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述抽屉的数量为一个。
8.如权利要求1至7中的任一项所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述连接管道还包括可通入冷却水的水管,所述水管设置于所述连接盒的墙内。
9.如权利要求8所述的用于化学气相沉积设备的连接管道,其特征在于,所述水管设置于第一自由口所对着的所述连接盒的墙内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的