[实用新型]一种等离子真空陶瓷镀膜装置无效

专利信息
申请号: 201020629050.3 申请日: 2010-11-26
公开(公告)号: CN201890924U 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 黄瑞安 申请(专利权)人: 黄瑞安
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 廖平
地址: 515735 广东省潮州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种镀膜装置,具体为一种等离子真空陶瓷镀膜装置。本实用新型的等离子真空陶瓷镀膜装置,其包括真空室装置、镀件工作装置和等离子体源,其中所述的真空室装置包括真空室,与真空室相连的真空泵,以及位于真空室上的进气口;所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架、用于镀膜的工作电源、与工作电源相连的蒸发源,所述的蒸发源至少有两个。本实用新型相比于现有技术实现了等离子体均匀分布在镀件的周围,保证了镀件上的镀膜层厚度均匀。
搜索关键词: 一种 等离子 真空 陶瓷 镀膜 装置
【主权项】:
一种等离子真空陶瓷镀膜装置,其特征在于:其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源,其中所述的真空室装置包括真空室,与真空室相连的真空泵,以及位于真空室上的进气口;所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架;所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件,所述的蒸发源至少为两个。
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