[实用新型]一种等离子真空陶瓷镀膜装置无效
| 申请号： | 201020629050.3 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN201890924U | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 黄瑞安 | 申请（专利权）人： | 黄瑞安 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 廖平 |
| 地址： | 515735 广东省潮州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 真空 陶瓷 镀膜 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件，所述的蒸发源至少为两个。
2.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：所述的转动装置包括了转轴和位于转轴上由转轴带动的转盘。
3.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：所述的镀件架包括主件和若干个挂件，所述的挂件分布在主件上，所述的主件与转盘转动连接，主件随着转盘转动的同时其自身也转动。
4.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：所述的镀件架沿转盘周边分布，每个镀件架之间的距离可以根据镀件的体积大小来调整。
5.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：其中一个蒸发源位于镀件的内侧，另外的蒸发源位于镀件的外侧。
6.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：所用的等离子体源为冷阴极电弧型等离子发射源。
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