[实用新型]一种等离子真空陶瓷镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜装置，具体为一种等离子真空陶瓷镀膜装置。

背景技术

现有技术的等离子镀膜装置具有操作简单、可靠、生产成本较低等优点，但其用于陶瓷镀膜存在以下的缺陷：1.难以同时获得多种不同的膜；2不同金属的物化性质的差别如蒸发温度的不同，电离电位不同使得不同离子在同一镀面上的稳定性和均匀性很难控制，不同离子的沉积速度不同，容易在镀件表面出现斑点，难以保证镀膜的质量。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种等离子真空陶瓷镀膜装置以解决镀膜层质量差异、镀膜质量难以保证的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种等离子真空陶瓷镀膜装置，其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件，所述的蒸发源至少为两个。

本实用新型所述的转动装置包括了转轴和位于转轴上由转轴带动的转盘。

本实用新型所述的镀件架包括主件和若干个挂件，所述的挂件分布在主件上，所述的主件与转盘转动连接，主件随着转盘转动的同时其自身也在不停的转动，以实现镀件周身均匀镀膜。

本实用新型所述的镀件架沿转盘周边分布，每个镀件架之间的距离可以根据镀件的体积大小来调整。

本实用新型优选的实施例中一个蒸发源位于镀件的内侧，另外的蒸发源位于镀件的外侧，以保证镀件上的镀膜层的厚度均匀。

本实用新型所用的等离子体源为阴极电弧型等离子发射源。

本实用新型相比于现有技术，其有益效果在于：本实用新型在等离子源的周围有至少两个以上的蒸发源，保证了等离子体均匀分布在镀件的周围；在本实用新型优选的方案中，一个蒸发源位于镀件架的内侧，另外的蒸发源位于镀件架的外侧，使等离子体在镀件的周围均匀分布，保证了镀件上的镀膜层厚度均匀，有效防止了由等离子体源发射的等离子体沉积速度不一致而导致镀件表面出现斑点的现象。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细说明。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型的等离子真空陶瓷镀膜装置，其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室11，与真空室相连的真空泵12，以及位于真空室上的进气口13；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源31、与工作电源连接的蒸发源电极32和绝缘件33，所述的蒸发源至少为两个。

本实用新型的实施方式中，所述的转动装置包括转轴22和转盘21，所述的镀件架中的主架23位于转盘的边缘并与转盘转21动连接。工作时将镀件放置在镀件架中的挂件24上，用动力装置带动转轴22和转盘21转动，同时镀件架也绕着转轴22做圆周运动，而镀件架转动连接在转盘21上，镀件架在转盘上自身也不停地转动，通过镀件绕转轴22转动及其自身的转动，保证等离子体在镀件四周均匀分布即保证了镀膜层在镀件上的厚度均匀。

本实用新型优选的方案中，蒸发源包括工作电源31、蒸发源电极32和绝缘件33，更优选的蒸发源至少有两个，其中一个位于镀件架内侧，另外的位于镀件架外侧，工作中，等离子体源发射等离子体，在多个蒸发源的作用下，防止等离子体的沉积速度不一致而导致的镀件表面出现斑点，保证镀膜的均匀美观，尤其当需要在同一镀件上镀上不同种类的膜时，这一特征就显得非常重要了。

本实用新型所用的等离子体源41为阴极电弧型等离子发射源。