[发明专利]一种提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法有效
| 申请号： | 201010589347.6 | 申请日： | 2010-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102024083A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 马天宇;陈岚;阮文彪;李志刚;叶甜春 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出一种通过建立电容查找表快速提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法。通过对多个互连结构提取几何参数、进行冗余金属填充并在填充后进行电容提取以建立电容查找表；然后对于需要进行电容提取的电路版图进行结构单元划分和几何参数提取，根据提取出的每个结构的单元几何参数查询上述电容查找表，获得该结构单元的实际电容。本发明解决了现有的2.5D电容提取工具无法准确提取含有冗余金属的互连结构的电容以及3D电容提取工具提取时间过长的问题。本发明提出的方法既能够确保提取出的电容精确度符合要求，又能够确保电容提取消耗的时间在可以接受的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提取 含有 冗余 金属 互连 结构 电容 方法 | ||
【主权项】：
一种提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法，其特征在于，包括以下步骤：A．建立含有冗余金属互连结构的电容查找表，包括：设计多个互连结构；对每个所述互连结构采用多个几何参数进行表征；对每个所述互连结构分别进行冗余金属填充；对每个所述互连结构进行电容提取；建立所述互连结构的电容查找表；B．对电路版图进行电容提取，包括：提供电路版图，所述电路版图包括含有所述冗余金属的互连结构；对所述电路版图进行结构划分，以形成一个或多个结构单元；对所述结构单元提取真实的几何参数；根据提取的真实的几何参数查询所述电容查找表，得到所述结构单元的电容值。
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