[发明专利]一种提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法有效
申请号: | 201010589347.6 | 申请日: | 2010-12-15 |
公开(公告)号: | CN102024083A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 马天宇;陈岚;阮文彪;李志刚;叶甜春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提取 含有 冗余 金属 互连 结构 电容 方法 | ||
1.一种提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,包括以下步骤:
A.建立含有冗余金属互连结构的电容查找表,包括:
设计多个互连结构;
对每个所述互连结构采用多个几何参数进行表征;
对每个所述互连结构分别进行冗余金属填充;
对每个所述互连结构进行电容提取;
建立所述互连结构的电容查找表;
B.对电路版图进行电容提取,包括:
提供电路版图,所述电路版图包括含有所述冗余金属的互连结构;
对所述电路版图进行结构划分,以形成一个或多个结构单元;
对所述结构单元提取真实的几何参数;
根据提取的真实的几何参数查询所述电容查找表,得到所述结构单元的电容值。
2.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤A中所述互连结构包括两根或多根平行金属线结构。
3.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤A中所述几何参数包括所述互连结构中的互连线长度、互连线线宽和互连线间距。
4.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤A中所述进行冗余金属填充包括:以行列或错位形式填充冗余金属以形成矩形或者其他几何形状。
5.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤A中所述电容提取包括采用各种电容提取软件和提取算法进行电容提取。
6.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤A中所述建立所述互连结构的电容查找表包括以所述几何参数作为查找表的索引,以提取的所述电容值作为查找内容。
7.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤B中所述对所述电路版图进行结构划分,以形成一个或多个结构单元包括:将所述电路版图划分为与步骤A中所述互连结构大小相当的结构单元。
8.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤B中所述真实的几何参数包括所述电路版图的结构单元中的互连线长度、互连线线宽和互连线间距。
9.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤B中所述根据提取的真实的几何参数查询所述电容查找表,得到所述结构单元的电容值包括:
如果所述电容查找表中具有与提取的真实的几何参数相一致的几何参数,以所述相一致的几何参数的索引下的电容值作为所述结构单元的电容值;
如果所述电容查找表中没有与提取的真实的几何参数相一致的几何参数,采用插值方法获得所需电容值。
10.如权利要求1所述的提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法,其特征在于,步骤B中所述得到所述结构单元的电容值之后,还包括:如果所述互连结构中的一根互连线被划分到多个结构单元中,将多个所述结构单元中的所述互连线的电容值相加以得到所述互连线的电容值。
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