[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201010584692.0 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102533116A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种新的用于多晶硅的化学机械抛光液，这种抛光液至少含有一种磷酸酯类添加剂，还含有研磨颗粒和水。该添加剂可显著降低多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒和一种或多种添加剂。
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