[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒和一种或多种添加剂。

2.如权利要求1所述抛光液，其特征在于，所述添加剂包括一种磷酸酯类表面活性剂，所述的磷酸酯类表面活性剂具有如下结构：

或(2)(X＝RO，RO-(CH₂CH₂O)_n，RCOO-(CH₂CH₂O)_n)或含有两个以上结构式1的多元醇磷酸酯。

其中R为C8～C22的烷基或烷基苯、甘油基(C₃H₅O₃-)等；n＝3～30，M＝H，K，NH₄，(CH₂CH₂O)_1～3NH_3～1和/或Na。

3.如权利要求2所述抛光液，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂的含量为重量百分比为0.0005～1％。

4.如权利要求3所述抛光液，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂的含量为重量百分比为0.001～0.5％。

5.如权利要求1所述抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒选自二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒如聚苯乙烯中的一种或多种。

6.如权利要求1所述抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的粒径为20～150nm。

7.如权利要求1所述抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.1～30％。

8.如权利要求7所述抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.5～20％。

9.如权利要求1所述抛光液，其特征在于，所述的抛光液的pH为7～12。