[发明专利]一种钌金属溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 201010581909.2 | 申请日： | 2010-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN102485378A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 罗俊锋;丁照崇;何金江;王欣平;江轩 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B22F3/14 | 分类号： | B22F3/14;C23C14/14;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 耿小强 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种钌金属溅射靶材制备方法。该发明通过直接热压的方法制备钌金属溅射靶材，热压温度1400℃～1700℃，压力为35MPa，保温保压时间10～60min。通过这种方法得到的钌金属靶材的密度可以达到98％以上，平均晶粒尺寸在20μm以下，氧含量可以达到200ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种钌金属溅射靶材制备方法，其特征在于：通过直接热压的方法制备钌金属溅射靶材，热压温度为1400℃～1700℃，压力为35MPa，保温保压时间为10～60min。
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