[发明专利]制造液晶显示装置的方法有效
| 申请号： | 201010556246.9 | 申请日： | 2010-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN102087450A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 朴承烈;孙庚模 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/1343;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;吕俊刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种制造LCD装置的方法，该方法包括：在像素区中形成牺牲层图案，同时在基板上形成选通线、第一存储电极和选通焊盘；在基板上顺序地形成栅绝缘膜、非晶硅膜、掺杂非晶硅膜和源极/漏极金属膜；在覆盖有保护膜的基板上形成透明导电材料，然后将透明导电材料进行构图，以形成第二存储电极和电极图案，该第二存储电极与第一存储电极重叠，该电极图案具有与牺牲层图案的一个侧边缘的区域重叠的一部分和形成在基板上的另一部分；以及通过执行剥离工艺去除形成有电极图案的基板上的牺牲层图案，以在像素区中同时形成公共电极和像素电极。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 液晶 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
一种制造液晶显示装置的方法，该方法包括：在像素区中形成多个牺牲层图案，同时在基板上形成选通线、第一存储电极和选通焊盘；在设置有所述选通线的基板上，顺序地形成栅绝缘膜、由非晶硅膜和掺杂非晶硅膜组成的有源层、和源极/漏极金属膜，然后形成源极/漏极、有源层和数据线；在加载有所述源极/漏极的基板的整个表面上形成保护膜，然后在所述保护膜中形成接触孔；在覆盖有所述保护膜的基板上形成透明导电材料，然后对所述透明导电材料进行构图，以形成第二存储电极和电极图案，该第二存储电极与所述第一存储电极重叠，该电极图案具有与所述牺牲层图案的一个侧边缘的区域重叠的一部分和形成在所述基板上的另一部分；以及通过执行剥离工艺去除形成有所述电极图案的基板上的所述牺牲层图案，以在所述像素区中同时形成公共电极和像素电极。
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