[发明专利]曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法无效
| 申请号： | 201010528353.0 | 申请日： | 2010-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN102096327A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 植原聡;原保彦;山本健司;北村纯一 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高科技 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是有关于曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法。其中的曝光方法包括：一边使夹盘(10)与光束照射装置(20)相对地移动，一边将描画数据供给至光束照射装置(20)的驱动电路(27)。利用设置在夹盘(10)的光接收机构(CCD相机(51))，接收从光束照射装置(20)的头部(20a)照射而来的光束，根据所接收到的光束预先对利用光束所描画的图案(2)的每次扫描的偏移进行检测，且根据检测结果来修正描画数据的坐标。本发明在将光束对基板的扫描进行多次而在基板上描画图案时，使利用光束所描画的图案的每次扫描的偏移受到抑制，提高了描画精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 显示 面板 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其包括：夹盘，对涂布着光致抗蚀剂的基板进行支撑；具有头部的光束照射装置，该头部包括对光束进行调制的空间性光调制器、根据描画数据来驱动所述空间性光调制器的驱动电路、及照射经所述空间性光调制器而调制的光束的照射光学系统；以及移动机构，使所述夹盘与所述光束照射装置相对地移动，将来自所述光束照射装置的光束对基板的扫描进行多次，从而在基板上描画出图案，所述曝光装置的特征在于包括：描画控制机构，将描画数据供给至所述光束照射装置的驱动电路；光接收机构，设置在所述夹盘上，接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；以及检测机构，根据由所述光接收机构接收到的光束，预先对利用光束所描画的图案的每次扫描的偏移进行检测，且所述描画控制机构根据所述检测机构的检测结果来修正描画数据的坐标。
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