[发明专利]曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其包括：

夹盘，对涂布着光致抗蚀剂的基板进行支撑；

具有头部的光束照射装置，该头部包括对光束进行调制的空间性光调制器、根据描画数据来驱动所述空间性光调制器的驱动电路、及照射经所述空间性光调制器而调制的光束的照射光学系统；以及

移动机构，使所述夹盘与所述光束照射装置相对地移动，

将来自所述光束照射装置的光束对基板的扫描进行多次，从而在基板上描画出图案，

所述曝光装置的特征在于包括：

描画控制机构，将描画数据供给至所述光束照射装置的驱动电路；

光接收机构，设置在所述夹盘上，接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；以及

检测机构，根据由所述光接收机构接收到的光束，预先对利用光束所描画的图案的每次扫描的偏移进行检测，且

所述描画控制机构根据所述检测机构的检测结果来修正描画数据的坐标。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

所述检测机构对由所述光接收机构接收到的光束的强度的变化进行检测；

所述描画控制机构根据所述检测机构的检测结果来修正描画数据，以使光束的光量分布均一。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于：

所述移动机构使所述夹盘与所述光束照射装置相对地来回移动；

所述光接收机构在至少两次连续扫描的开始位置或结束位置处，分别接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；

所述检测机构根据由所述光接收机构接收到的光束，预先对利用光束所描画的图案的扫描方向的偏移进行检测。

4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于：

所述光接收机构在一个扫描区域与另一个扫描区域的边界处分别接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；

所述检测机构根据由所述光接收机构接收到的光束，预先对利用光束所描画的图案的与扫描方向正交的方向的偏移进行检测。

5.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于：

包括多个所述光束照射装置，利用来自多个光束照射装置的多个光束而并行地进行基板的扫描；

所述光接收机构在来自一个光束照射装置的光束的扫描区域与来自另一个光束照射装置的光束的扫描区域的边界处，分别接收从两个光束照射装置的头部照射而来的光束；

所述检测机构根据由所述光接收机构接收到的光束，预先对利用来自一个光束照射装置的光束所描画的图案与利用来自另一个光束照射装置的光束所描画的图案的偏移进行检测。

6.一种曝光方法，利用夹盘来对涂布着光致抗蚀剂的基板进行支撑；

使夹盘与具有头部的光束照射装置相对地移动，该头部包括对光束进行调制的空间性光调制器、根据描画数据来驱动所述空间性光调制器的驱动电路、及照射经所述空间性光调制器而调制的光束的照射光学系统；

将来自光束照射装置的光束对基板的扫描进行多次，从而在基板上描画出图案，所述曝光方法的特征在于：

一边使所述夹盘与所述光束照射装置相对地移动，一边将描画数据供给至所述光束照射装置的驱动电路；

利用设置在所述夹盘的光接收机构，接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；

根据所接收到的光束，预先对利用光束所描画的图案的每次扫描的偏移进行检测；以及

根据检测结果来修正所述描画数据的坐标。

7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于：

对由所述光接收机构接收到的光束的强度的变化进行检测；

根据检测结果来修正所述描画数据，以使光束的光量分布均一。

8.如权利要求6或7所述的曝光方法，其特征在于：

使所述夹盘与所述光束照射装置相对地来回移动；

利用设置在所述夹盘的所述光接收机构，在至少两次连续扫描的开始位置或结束位置处分别接收从所述光束照射装置的头部照射而来的光束；

根据所接收到的光束，预先对利用所述光束所描画的图案的扫描方向的偏移进行检测。