[发明专利]曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在液晶显示器装置等的显示用面板基板的制造中，对涂布着光致抗蚀剂(photo-resist)的基板照射光束，并利用光束来扫描基板，从而在基板上描画出图案的曝光装置，曝光方法及使用它们的显示用面板基板的制造方法，本发明尤其涉及一种将光束对基板的扫描进行多次的曝光装置、曝光方法、及使用它们的显示用面板基板的制造方法。

背景技术

被用作显示用面板的液晶显示器装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示器面板(plasma display panel)用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等的制造，是使用曝光装置并利用光刻(photolithography)技术而在基板上形成图案来进行。关于曝光装置，以前有如下方式：使用透镜(lens)或反射镜(mirror)将掩模(mask)的图案投影至基板上的投影方式，及在掩模与基板之间设置微小的间隙(接近间隙(proXimity gap))而将掩模的图案转印至基板的接近方式。

近年来，开发了一种对涂布着光致抗蚀剂的基板照射光束，并利用光束来扫描基板，从而在基板上描画出图案的曝光装置。因利用光束来扫描基板，并在基板上直接描画出图案，所以不需要高价的掩模。而且，可通过使描画数据及扫描的程序改变，而与各种显示用面板基板相对应。关于此种曝光装置，例如有专利文献1、专利文献2、及专利文献3所述的曝光装置。

专利文献1：日本专利特开2003-332221号公报

专利文献2：日本专利特开2005-353927号公报

专利文献3：日本专利特开2007-219011号公报

光束对基板的扫描是使照射光束用的光束照射装置、与支撑基板的夹盘(chuck)相对地移动而进行的。图15～图18是说明光束对基板的扫描的图。图15～图18表示如下示例：使用八个光束照射装置，并利用来自八个光束照射装置的八条光束，将基板1的X方向的扫描进行四次，从而对基板1整体进行扫描。各光束照射装置具有头部20a，该头部20a包括对基板1照射光束的照射光学系统，在图15～图18中，由虚线来表示各光束照射装置的头部20a。从各光束照射装置的头部20a照射而来的光束，在Y方向上具有频带宽度(bandwidth)W，通过光束照射装置与夹盘的朝X方向的相对移动，朝箭头所示的方向来扫描基板1。

图15表示第一次扫描，通过朝X方向的第一次扫描，在图15中由灰色表示的扫描区域进行图案的描画。当第一次扫描结束时，通过光束照射装置与夹盘的朝Y方向的相对移动，使扫描区域朝Y方向仅移动与频带宽度W相同的距离。图16表示第二次扫描，利用朝X方向的第二次扫描，在图16中由灰色表示的扫描区域进行图案的描画。当第二次扫描结束时，通过光束照射装置与夹盘的朝Y方向的相对移动，使扫描区域朝Y方向仅移动与频带宽度W相同的距离。图17表示第三次扫描，利用朝X方向的第三次扫描，在图17中由灰色表示的扫描区域进行图案的描画。当第三次扫描结束时，通过光束照射装置与夹盘的朝Y方向的相对移动，使扫描区域朝Y方向仅移动与频带宽度W相同的距离。图18表示第四次扫描，利用朝X方向的第四次扫描，在图18中由灰色表示的扫描区域进行图案的描画，从而基板1整体的扫描结束。

另外，图15～图18中表示的是将基板1的X方向的扫描进行四次，从而对基板1整体进行扫描的示例，但扫描的次数并不限于此，也可进行三次以下或五次以上的基板1的X方向的扫描，从而对基板1整体进行扫描。

这样，在将光束对基板的扫描进行多次的情况下，如果光束照射装置与夹盘的扫描方向或与扫描方向成正交的方向的相对移动出现误差，则存在利用光束所描画的图案在每次扫描时发生偏移的问题。而且，在液晶显示器装置等的显示用面板基板的制造中，因曝光区域宽广，所以大多是使用多个光束照射装置并利用多个光束而并行地进行基板的扫描，此时，如果各光束照射装置的头部的位置彼此发生偏移，则存在利用来自各光束照射装置的光束所描画的图案也发生偏移的问题。

以前，此种图案的偏移的检查是通过分析实际进行曝光的基板来进行的。因此，光束照射装置与夹盘的相对移动的误差的修正、或各光束照射装置的头部的位置的调节中，要耗费较多的时间及工夫。