[发明专利]设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置

摘要

本发明提供设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置。离子注入装置沿与从多个离子束供给装置分别提供给处理室内的带状离子束的长边方向大体垂直的方向，输送玻璃基板，沿玻璃基板整个面，使由各带状离子束照射的区域重迭，在玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，在该离子注入装置中，根据离子注入条件，设定各离子束的束电流密度分布的调整目标，能高效地调整各离子束的束电流密度分布。根据对离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据。在调整目标设定数据内有与离子注入条件一致的数据的情况下，使用从调整目标设定数据中读出的束电流值，设定各带状离子束中至少一个带状离子束的束电流密度的调整目标。

主权项

一种设定束电流密度分布的调整目标的方法，其特征在于，在离子注入装置中，针对各个带状离子束设定束电流密度分布的调整目标，所述离子注入装置从多个离子束供给装置分别向处理室内提供所述带状离子束，在与所述带状离子束的长边方向大体垂直的方向上，输送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整个面，使由所述各个带状离子束照射的区域重迭，在所述玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，根据对所述离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据，在所述调整目标设定数据内有与所述离子注入条件一致的数据的情况下，使用从该调整目标设定数据读出的束电流值，设定所述各个带状离子束中至少一个所述带状离子束的束电流密度分布的调整目标。