[发明专利]设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置

说明书

技术领域

本发明涉及使由多个带状离子束形成的照射区域重迭，在玻璃基板上形成规定的离子注入量分布的离子注入装置。

背景技术

近年来，以液晶电视为代表的液晶产品的大型化非常显著。在半导体制造工序中，为了在一个处理工序中处理更多的液晶面板，进行了增大玻璃基板的尺寸，并从大型的玻璃基板获得多块液晶面板的尝试。对于作为半导体制造装置之一的离子注入装置，要求要与这样的大型的玻璃基板相适应。

为了应对这样的要求，至今为止开发了专利文献1所记载的离子注入装置。

在专利文献1中公开了：使用比玻璃基板的尺寸小的两个离子束，对玻璃基板的整个面实施离子注入处理的技术。更具体地说，在专利文献1中，作为一个例子，把相互垂直的三个方向(X、Y及Z方向)分别定义为离子束的短边方向、离子束的长边方向及离子束的行进方向。两个离子束位于在X方向上相互离开的位置，在Y方向上使双方的中心位置错开，使得在玻璃基板上由各离子束照射的区域部分重迭，以上述方式向对玻璃基板实施离子注入处理的处理室内照射离子束。通过以横穿这样的离子束的长边方向的方式，沿X方向输送玻璃基板，可以沿玻璃基板的整个面实现离子注入处理。

专利文献1中所记载的技术的玻璃基板的输送速度是一定的。由于要沿玻璃基板的整个面实现均匀的注入量分布，所以照射在玻璃基板上的离子束的电流密度分布，如专利文献1中的图6所示，要调整成：包括两个离子束重迭的区域，沿Y方向整体为大体均匀的电流密度分布。

专利文献1：日本专利公开公报特开2009-152002号(图1、图3、图6及0077～0088段)。

通常，在离子束重迭区域中的束电流密度分布的调整，与调整一个离子束的束电流密度分布的情况相比，作为调整对象的参数的个数多而且复杂。此外，可以明确：根据经验，照射到玻璃基板上的离子束的离子注入条件对离子束的束电流密度分布的调整结果和调整时间有影响。例如，当对在某个离子注入条件下照射到玻璃基板上的离子束的束电流密度分布进行调整的情况下，相对于作为目标的分布，有时可以把束电流密度分布高精度地调整到进入1％的误差范围内。由于这样的理由，可以认为：胡乱地对各离子束的束电流密度分布进行调整，会使相对于目标分布的调整精度恶化，并且使到整个调整结束为止需要更长的时间。

可是，在专利文献1中，对于在离子束重迭区域的束电流密度分布的调整，只是记载了把在玻璃基板上重迭的离子束照射区域中的束电流密度分布调整成与其它区域(未重迭的区域)中的束电流密度分布大体相等，并未公开具体怎样进行调整才行。

发明内容

所以为了解决上述问题，本发明的主要目的是提供一种根据离子注入条件对多个离子束设定束电流密度分布的调整目标的方法，以及具有用于实现该方法的控制装置的离子注入装置。

即，本发明提供一种设定束电流密度分布的调整目标的方法，其特征在于，在离子注入装置中，针对各个带状离子束设定束电流密度分布的调整目标，所述离子注入装置从多个离子束供给装置分别向处理室内提供所述带状离子束，在与所述带状离子束的长边方向大体垂直的方向上，输送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整个面，使由所述各个带状离子束照射的区域重迭，在所述玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，根据对所述离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据，在所述调整目标设定数据内有与所述离子注入条件一致的数据的情况下，使用从该调整目标设定数据读出的束电流值，设定所述各个带状离子束中至少一个所述带状离子束的束电流密度分布的调整目标。

此外，本发明还提供一种离子注入装置，其特征在于，从多个离子束供给装置分别向处理室内提供带状离子束，在与所述带状离子束的长边方向大体垂直的方向上，输送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整个面，使由各个所述带状离子束照射的区域重迭，在所述玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，所述离子注入装置包括控制装置，所述控制装置具有下述功能：根据对所述离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据，在所述调整目标设定数据内有与所述离子注入条件一致的数据的情况下，使用从该调整目标设定数据读出的束电流值，设定各个所述带状离子束中至少一个所述带状离子束的束电流密度分布的调整目标。

按照这样的设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置，根据对离子注入装置设定的离子注入条件，可以对各离子束设定束电流密度分布的目标值，与胡乱地设定各离子束的束电流密度分布的目标值后进行调整的情况相比，可以高效地调整各离子束的束电流密度分布。