[发明专利]设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置

权利要求书

1.一种设定束电流密度分布的调整目标的方法，其特征在于，

在离子注入装置中，针对各个带状离子束设定束电流密度分布的调整目标，所述离子注入装置从多个离子束供给装置分别向处理室内提供所述带状离子束，在与所述带状离子束的长边方向大体垂直的方向上，输送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整个面，使由所述各个带状离子束照射的区域重迭，在所述玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，

根据对所述离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据，在所述调整目标设定数据内有与所述离子注入条件一致的数据的情况下，使用从该调整目标设定数据读出的束电流值，设定所述各个带状离子束中至少一个所述带状离子束的束电流密度分布的调整目标。

2.根据权利要求1所述的设定束电流密度分布的调整目标的方法，其特征在于，把照射到所述玻璃基板上的所述离子束的离子种类和能量作为检索项目进行所述检索。

3.一种离子注入装置，其特征在于，

从多个离子束供给装置分别向处理室内提供带状离子束，在与所述带状离子束的长边方向大体垂直的方向上，输送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整个面，使由各个所述带状离子束照射的区域重迭，在所述玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布，

所述离子注入装置包括控制装置，所述控制装置具有下述功能：根据对所述离子注入装置设定的离子注入条件，检索调整目标设定数据，在所述调整目标设定数据内有与所述离子注入条件一致的数据的情况下，使用从该调整目标设定数据读出的束电流值，设定各个所述带状离子束中至少一个所述带状离子束的束电流密度分布的调整目标。

4.根据权利要求3所述的离子注入装置，其特征在于，把照射到所述玻璃基板上的所述离子束的离子种类和能量作为检索项目进行所述检索。