[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010206078.0 | 申请日： | 2010-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN101930183A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | T·哈德曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法，尤其公开了一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法，所述方法包括：提供编码器类型的位置测量系统用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码器头，测量被反射到所述两个或更多个检测器中的每一个上的光的量；使用被反射到所述两个或更多个检测器上的所述光的组合的光强度，来确定表示在测量位置处的所述网格板的反射率的反射率信号；和基于所述网格板的反射率信号确定在所述测量位置处的缺陷的存在。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法，所述方法包括步骤：提供编码器类型的位置测量系统用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码器头，其中所述网格板被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第一个上，且所述编码器头被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第二个上，所述编码器头包括辐射源和两个或更多个检测器，所述辐射源被配置用以朝向所述网格板上的测量位置发射辐射束，每一个所述检测器被配置用以测量由所述网格板反射的辐射束的量；测量被反射到所述两个或更多个检测器中的每一个检测器上的辐射束的量；使用被反射到所述两个或更多个检测器上的所述辐射束的组合的辐射束强度，来确定表示在测量位置处的所述网格板的反射率的反射率信号；和基于所述网格板的所述反射率信号来确定在所述测量位置处的缺陷的存在。
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