[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种用于确定编码器类型的位置测量系统的网格板中的缺陷的方法，所述方法包括步骤：

提供编码器类型的位置测量系统用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码器头，其中所述网格板被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第一个上，且所述编码器头被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第二个上，所述编码器头包括辐射源和两个或更多个检测器，所述辐射源被配置用以朝向所述网格板上的测量位置发射辐射束，每一个所述检测器被配置用以测量由所述网格板反射的辐射束的量；

测量被反射到所述两个或更多个检测器中的每一个检测器上的辐射束的量；

使用被反射到所述两个或更多个检测器上的所述辐射束的组合的辐射束强度，来确定表示在测量位置处的所述网格板的反射率的反射率信号；和

基于所述网格板的所述反射率信号来确定在所述测量位置处的缺陷的存在。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括在多个测量位置处测量所述网格板的反射率信号，用以确定所述网格板的反射率轮廓。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述在多个测量位置处的网格板的所述反射率信号被用于确定所述网格板的缺陷分布图。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述缺陷分布图被用于在实际位置测量期间补偿缺陷。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定在测量位置处的缺陷的步骤包括：比较被测量的反射率信号与阈值。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定测量位置处的缺陷的步骤包括：比较已测量的反射率信号与在所述测量位置处的之前已测量的反射率信号。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述方法包括步骤：测量所述网格板在多个测量位置处的反射率信号，以确定所述网格板的反射率轮廓，其中通过比较所述反射率轮廓与所述网格板的之前被确定的反射率轮廓来确定缺陷。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述组合的辐射束强度是由所述两个或更多个检测器测量的总的辐射束强度。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括：在位置测量期间使所述编码器头的输出和/或所述反射率信号与所述编码器头的预期的输出和/或预期的反射率信号相关联，以确定所述网格板上的缺陷。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述预期的输出基于之前被测量的编码器头的输出。

11.一种使用编码器类型的位置测量系统的位置测量方法，所述方法包括步骤：

提供用以测量可移动物体相对于另一物体的位置的编码器类型的位置测量系统，所述编码器类型的位置测量系统包括网格板和编码器头，其中所述网格板被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第一个上，所述编码器头被安装到所述可移动物体和所述另一物体中的第二个上，所述编码器头包括辐射束源和两个或更多个检测器，所述辐射束源被配置以朝向所述网格板上的测量位置发射辐射束，所述两个或更多个检测器中的每一个检测器被配置以测量由所述网格板反射的辐射束的量；

测量被反射到所述两个或更多个检测器中的每一个检测器上的辐射束的量；

基于所述被测量的辐射的量确定所述编码器头相对于所述网格板的位置；和

补偿在所述测量的位置处的所述网格板中的缺陷的效应。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述补偿步骤包括：

使用所述网格板的反射率，用以预测位置测量信号中的相位误差，和

补偿所述相位误差。

13.根据权利要求12所述的方法，其中基于所述编码器头的正向冲激响应的缺陷核被用于预测由于所述缺陷造成的相位误差。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述补偿步骤包括：使用通过下述步骤确定的缺陷：

通过使用被反射到所述两个或更多个检测器上的所述辐射束的组合的辐射束强度，用以确定表示在所述测量位置处的所述网格板的反射率的反射率信号；和

基于所述网格板的反射率信号确定在所述测量位置处的缺陷的存在。